（中央社記者廖文綺上海17日電）據外媒報導，中國晶圓代工龍頭中芯國際正在測試由上海新創公司「宇量昇」生產的深紫外光曝光機（DUV）。一旦成功，中國將在突破美國晶片出口管制、降低對西方技術依賴，以及擴大先人工智慧晶片產能上取得重大勝利。

英國金融時報今天報導，知情人士稱，中芯正在測試一款28奈米自製DUV，並利用所謂「多重圖案化」（multi-patterning）技術生產7奈米晶片。報導稱，該機台採用了與荷蘭艾司摩爾（ASML）相似的「浸潤式」技術。

其中一名知情人士透露，中芯初步測試結果相對樂觀，但目前尚不清楚該曝光機何時能投入量產。報導指出，通常新款DUV設備至少需要1年時間，且經過多次調整，才具備量產條件。

目前中芯與其他中國晶片製造商主要依靠艾司摩爾生產的DUV設備，但受美國出口管制影響，近年來新機台的取得受限，只能使用在美國管制前購入、或從海外二手市場取得的DUV設備。

鑽研中國晶片業的伯恩斯坦高級分析師林慶元（Qingyuan Lin，音譯）表示，若試驗成功，對中國企業將是重要一步，未來還能以此突破作為基礎，研發更先進的機台。

不過，中國仍無法取得最先進製程所需的極紫外光曝光機（EUV）。該設備是生產輝達（NVIDIA）等最先進晶片的關鍵，而艾司摩爾被禁止向中國出售EUV設備。EUV仍是中國追趕輝達等行業龍頭的最大瓶頸。

報導同時指出，知情人士透露，上海新創公司「宇量昇」的股東之一「深圳新凱來技術有限公司」正在投入EUV開發，但仍處於早期階段。該EUV計劃的內部代號為「珠穆朗瑪峰」（聖母峰）。

林慶元認為，從原型機到能夠量產，並與艾司摩爾競爭，仍需數年時間。（編輯：邱國強）1140917